能量图形_能量是什么
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晶合集成获得发明专利授权:“控制刻蚀图形偏差的方法和系统”专利摘要:本申请公开了一种控制刻蚀图形偏差的方法和系统。获取显影后预设图形的关键尺寸的目标值;以预设图形为掩膜刻蚀形成刻蚀图形后,获取刻蚀图形的关键尺寸的第一测量值;获取预设图形的关键尺寸随曝光能量的变化率以及以预设图形为掩膜刻蚀形成刻蚀图形的标准刻蚀偏说完了。
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能量图形化
晶合集成申请光阻图形的形成方法专利,改善曝光后因烘烤延迟导致的...合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“光阻图形的形成方法“公开号CN117761975A,申请日期为2024年2月。专利摘要显示,本发明提供了一种光阻图形的形成方法,包括:提供若干片晶圆和两枚光罩,依次将每片晶圆载入一曝光机中,曝光机中存储有两枚光罩的设定曝光能量以及后面会介绍。
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晶合集成获得发明专利授权:“光阻图形的形成方法”专利名为“光阻图形的形成方法”,专利申请号为CN202410194519.1,授权日为2024年5月17日。专利摘要:本发明提供了一种光阻图形的形成方法,包括:提供若干片晶圆和两枚光罩,依次将每片晶圆载入一曝光机中,曝光机中存储有两枚光罩的设定曝光能量以及每片晶圆对应的两枚光罩的小发猫。
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