黑的结构胶怎么去除

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光韵达取得一种光纤包层光去除装置专利,具有高效去除包层光和耐受...一种光纤包层光去除装置,包括第一阻光结构、隔热段和第二阻光结构,第一阻光结构形成第一腔体,第一腔体为空腔,第二阻光结构形成第二腔体,第二腔体内填充透明高折射率胶,透明高折射率胶的折射率大于光纤内包层的折射率,隔热段位于第一阻光结构与第二阻光结构之间,处于第一腔等我继续说。

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清华大学申请薄膜结构转印方法专利,适用于薄膜结构的大规模、高...本公开涉及一种薄膜结构转印方法。方法包括:在临时衬底的承载有至少一个薄膜结构的第一面旋涂第一光刻胶,第一光刻胶覆盖各薄膜结构且暴露出临时衬底的至少一个锚固区域,临时衬底包括硅衬底层、处于硅衬底层与薄膜结构之间的二氧化硅层;去除临时衬底上处于各锚固区域范围是什么。

长鑫存储申请半导体结构的制备方法、半导体结构和存储器专利,具有...本公开提供了一种半导体结构的制备方法、半导体结构和存储器,所述方法包括:提供衬底;所述衬底上依次沉积有金属层和牺牲层;在所述牺牲层上,形成图案化的第一光刻胶层;沿所述第一光刻胶层刻蚀,去除所述牺牲层,将所述金属层刻蚀形成若干个导线结构;每个所述导线结构包括:两条沿说完了。

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